無(wú)塵無(wú)氧化烤箱是半導(dǎo)體制造、精密電子、光伏產(chǎn)業(yè)、新材料研發(fā)等領(lǐng)域中的熱處理設(shè)備，專為對(duì)潔凈度與氣氛純度要求高的工藝而設(shè)計(jì)。
無(wú)塵無(wú)氧化烤箱通過(guò)多重技術(shù)手段，實(shí)現(xiàn)超凈環(huán)境、無(wú)氧氛圍與精準(zhǔn)溫控，廣泛應(yīng)用于晶圓烘烤、光刻膠固化、薄膜退火、陶瓷燒結(jié)等關(guān)鍵工序。
1、不銹鋼內(nèi)膽
采用316L或更高規(guī)格的鏡面拋光不銹鋼（Ra≤0.4μm），表面致密光滑，不易吸附微粒，耐腐蝕性強(qiáng)。內(nèi)膽無(wú)縫焊接，減少死角，便于清潔，有效防止顆粒污染與金屬離子析出，確保腔體長(zhǎng)期潔凈。
2、高效過(guò)濾系統(tǒng)（HEPA/ULPA）
配備H13-H14級(jí)HEPA或U15-U17級(jí)ULPA超高效過(guò)濾器，過(guò)濾效率達(dá)99.99%（0.3μm）以上。通過(guò)強(qiáng)制循環(huán)風(fēng)系統(tǒng)，持續(xù)凈化腔內(nèi)空氣，維持ISOClass3-5級(jí)（百級(jí)至千級(jí)）潔凈度，杜絕微粒污染。
3、惰性氣體保護(hù)系統(tǒng)
集成氮?dú)猓∟）、氬氣（Ar）或混合氣體管路，可實(shí)現(xiàn)腔體正壓保護(hù)。通過(guò)高精度流量計(jì)與電磁閥，自動(dòng)控制氣體充入、置換與維持，將氧含量降至1ppm以下，有效防止高溫下材料氧化、變色或性能劣化。
4、真空系統(tǒng)
配備機(jī)械泵或分子泵，可抽至高真空（≤10Pa），排除空氣與水分。適用于對(duì)殘余氣體敏感的工藝，如金屬薄膜退火、高純材料燒結(jié)，確保材料純凈度。
5、循環(huán)風(fēng)道與均流設(shè)計(jì)
采用側(cè)吹或頂吹式循環(huán)風(fēng)道，配合導(dǎo)流板與均流網(wǎng)，實(shí)現(xiàn)腔內(nèi)氣流均勻分布。避免局部過(guò)熱或溫差過(guò)大，確保±1℃以內(nèi)的高精度溫度均勻性，提升工藝一致性。
6、智能溫控系統(tǒng)
搭載PID或模糊控制算法，通過(guò)高精度熱電偶（K型或S型）實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)溫度。可編程多段升溫曲線，支持Ramp-Soak控制，升溫速率、恒溫時(shí)間、降溫模式靈活設(shè)定，滿足復(fù)雜工藝需求。
7、加熱元件
采用遠(yuǎn)紅外石英加熱管、陶瓷加熱器或不銹鋼鎧裝電熱絲，表面不產(chǎn)塵、不氧化。加熱元件置于腔體外部或獨(dú)立風(fēng)道內(nèi)，避免直接輻射污染樣品，確保加熱過(guò)程潔凈無(wú)污染。
8、觀察窗與照明系統(tǒng)
配備雙層或三層真空玻璃觀察窗，外層鋼化，內(nèi)層硼硅酸鹽，隔熱防爆。內(nèi)置LED冷光源照明，可在不開啟箱門的情況下實(shí)時(shí)觀察樣品狀態(tài)，減少污染風(fēng)險(xiǎn)。
更新時(shí)間：2025-10-20 
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