半導體烤箱，wafer烤箱于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料預處理烘烤；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實驗室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。

產(chǎn)品型號：
廠商性質：生產(chǎn)廠家
更新時間：2025-09-16
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產(chǎn)品詳情

半導體烤箱，wafer烤箱用途:
半導體烤箱，wafer烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃等材料預處理烘烤；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫(yī)藥、實驗室等生產(chǎn)及科研部門；也可用于非揮發(fā)性及非易燃易爆物品的干燥、熱處理、老化等其他高溫試驗。

特點：
1.烤箱具有升溫快，溫度過沖小，節(jié)能等優(yōu)點；
2.全周氬焊，耐高溫硅膠破緊，SUS304#不銹鋼電熱生產(chǎn)器，防機臺本身所產(chǎn)生微塵；
3.采用環(huán)抱式熱風循環(huán)系統(tǒng)，風源由循環(huán)馬達運轉帶動風輪經(jīng)電熱器，將熱風由風道送至烤箱內(nèi)部，且將使用后空氣吸入風道成為風源再度循環(huán)加熱，省電節(jié)能溫度均勻性好；
4.強制送風循環(huán)方式。雙風道循環(huán)結構，溫度場分布均勻，智能P.I.D溫控系統(tǒng)，得到精密溫度控制精度。

產(chǎn)品技術參數(shù)：

溫度范圍：RT+10～250℃；
溫度均勻度：±2℃;

溫度波動度：±0.5℃
溫控精度：±0.1℃;

工作室尺寸：W600×D550×H600（mm）
電源：220v , 50Hz，3.0KW

網(wǎng)板：2塊（高度可調節(jié))

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